项目经历:
1.150nm PMIC project 开发主要成员,NTO2/NTO3 Product owner,主要负责Process优化(解决了Film damage/SiN Crack issue),Pirun plan/Lot
schedule/结合WAT资料进行inlineQC、CD target的制定等相关工作,全程参与transfer Fab量产交接工作等
2.40nm HV CMOS project 开发主要成员(PDK0.1开始),BEOL UxVx/UzVz/RDV/RDL loop owner,主要负责BEOL process tuning,WAT analysis,
Defect improve,Yield improve,BEOL issue control table等相关问题的汇总汇报
主要解决了(1)BEOL Copper scratch/Copper missing/Copping missing line 等相关defect issue (2).Via suffer open issue(3).BEOL WAT metal
Rs mismatch issue(4). BEOL EM qualification pass (5).TM corriosion issue (6).TV overhang issue 等相关内容,撰写发明专利8篇
3.RD处 OJT 新人培训项目负责人
主要对接新人培训,公司稽核等相关内容,指导三名新员工在6个月时间完成相关训练课程并成功转正