1、选择性发射极项目的开发及量产导入
(1)工艺路线:SE的实现方式有蜡印后刻蚀、二次扩散、Laser Doping,鉴于工艺及设备方面的考虑,我选用Laser Doping的方式实现栅线下方的重掺杂区域,对丝网三道印刷进行改造或设备更新实现精准对位印刷,目前在单晶PERC的基础上,效率增益在0.2%左右;(2)设备选型:掺杂激光选用主流厂家、丝网三道进行设备更新,选用国产设备;
(3)17年四季度电池二部,三部及四部所有PERC单晶已经全部量产。
2、多晶湿法黑硅项目的开发及量产导入
(1)工艺路线:目前黑硅工艺路线有:1、多步法(纳鑫、时创、日益新及弘毅等)为碱抛、沉银、挖孔及扩孔主功能槽会使用到3至4种添加剂,如碱抛抑制剂、硝酸银、挖孔抑制剂等;2、一步法(普阳科技)为把沉银、挖孔及修正合并为一步,与多步法主要区别为使用酸抛、把沉银、挖孔及扩孔在同一功能槽内完成;3、预处理法多为SCHMID和RCT的链式工艺,目前应用较少;4、类常规绒面工艺(直接添加剂法,三峰、度森、合德丰等)为在常规多晶链式制绒直接增加添加剂实现金刚线切多晶硅片的制绒。最终经过效率、良率及单耗各方面考虑,我们使用多步法,使用三种添加剂;
(2)设备选型:捷佳创槽式黑硅机台(第一版机型为26槽,第二版机型为20槽,每槽400片,单小时产量6000以上);
(3)18年二季度完成量产导入。
3、碱抛光项目的开发及量产导入
目前随着降本增效及环保的不断加严,酸抛光的缺点逐渐凸显出来,首先对于PERC单晶来讲,若背面反射率越高,开压和短流会有优势,酸抛光为各向同性刻蚀,要做到35%以上的反射率,刻蚀减重至少在0.34以上,若反射率还需继续提高,随着减重的增加,化学品单耗的增加会指数式增加,酸刻蚀用到了HNO3、HF,废气中含大量氮氧物,需做专业处理才可排放,废气处理成本也较高。碱抛光相比于酸抛光,在更低减重情况下,反射率更高,化学品单耗成本也更低,碱抛光不会用到HNO3,废气中没有氮氧物,废气的处理成本也更低。
(1)工艺路线:去背面PSG→预清洗→碱抛光→碱洗→酸洗→front etching back→碱洗→酸洗→慢提拉→烘干;
(2)设备选型:捷佳创碱抛光机台,2个抛光槽,产量为7500pcs/hr以上;
(3)项目目前正在进行中,由于SE匹配碱抛光对于正面激光区的保护要求会更高,目前碰到的主要难点是串阻上升和填充下降的问题,正在通过添加剂的保护性增强、扩散、SE、玛雅及烧结等工序的优化匹配,来改善,达到碱抛效率提升的目的。
4、点激光项目的开发及量产导入
对于PERC单晶电池,背激光图形多数为线或者线段,随着效率需求的不断提高,通过开压的提升,达到效率提升,这样在组件的封损会较少,所以通过开孔面积的减少来实现。
(1)工艺路线:通过不同版图、不同重叠、不同线数、不同虚实比、不同激光能量、不同频率、不同打标速度等的各向优化,最终确定1.6%的开孔率为最佳,在原有设备不做任何改造的情况下效率增益达到0.06%;
(2)设备:基于原有帝尔和友晁的背激光开槽设备开发;
(3)项目于18年3季度完成量产导入。
5、主导产线整合的效率提升,如扩散工艺开发提效、常规单晶叠加SE的效率提升、背钝化厚膜工艺改善提效、热氧工艺改善、低温慢烧工艺、低温PE工艺开发、高阻密栅、化学品降单耗、丝网降单耗等产线整合提效的改善项目。